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有三大中心环节：薄膜堆积、光刻与刻蚀。其间，光刻环节本钱最高，其次就是刻蚀环节。光刻是将电路图画在晶圆之上，刻蚀则是沿着这一图画进行雕琢。这一进程中，会用到的设备就是刻蚀机。
相较于我国在光刻机范畴的巨大短板，在刻蚀机范畴，在以中微半导体为首的刻蚀机巨子的带领下，我国刻蚀机已达到了世界抢先水平。
中微半导体成立于2004年，由刻蚀机职业风云人物尹志尧一手创立。尹志尧是硅谷最有成果的华人之一，曾在英特尔、LAM研究所、使用资料等企业供职，在半导体范畴有着20余年的经历。
在他60岁，尹志尧抛弃百万美元年薪，顶着美国重重压力，带着三十余人精英团队回国，并创立了中微半导体。
2019年底，中微半导体的5nm刻蚀机取得台积电认可，成功用在其出产线上。这标志着，我国刻蚀机已达到业界先进水平。
跟着中微半导体产能的逐步提高，以及在国产代替大潮的推进下，中微半导体将在刻蚀机范畴占有更多的比例。
并且，尹志尧在第二届我国芯创年会上表明，我国设备公司有必要进入世界商场。这在某种程度上预示着，中微半导体还将冲击海外商场。
中微半导体的开展引起了美方的警觉，因而，日前中微半导体被美国国防部列入“我国涉军企业名单”。此前，中芯世界也遭受了这一待遇。
对此，1月15日中微公司回应称，这一状况对公司出产经营没有本质影响，公司现在进出口事务状况一切正常。
刻蚀机制作难度虽较光刻低，但半导体工艺制程细小且杂乱，并且半导体工艺制程的不断进化与结构规划更新，都给刻蚀机的制作带来了不小的应战。
现在，泛林半导体、使用资料、东京电子是全球前三大刻蚀机巨子，占有了半导体刻蚀机范畴94%的商场。而我国企业的占比仍是非常有限。
但在中微半导体、北方华创等企业的快速兴起下，国产刻蚀机现已迎来曙光。信任，国产刻蚀机不久后也能在世界商场上大放异彩，令人等待。
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