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光刻机、刻蚀机是芯片代工厂商不可或缺的重要设备，虽说我们在光刻机领域中的技术比较落后，但在刻蚀机领域，我们的祖国一直掌握着话语权。在全球的刻蚀机领域中，最能代表
我是柏柏说科技，90后科技爱好者。今天带大家探索的是：打破3纳米技术瓶颈，芯片生产重要设备，中微公司步入量产的3纳米刻蚀机。
美国对我国半导体行业的技术封锁、市场调控，让我们意识到芯片代工行业的重要性。在国家大力促进、鼓励半导体行业发展的背景下，中微公司传来一则好消息。即中微公司的3纳米刻蚀机Alpha原型机迈入量产阶段，该机的设计、制造、测试以及初步的工艺开发和评估已相继完成。
另外补充一点：2020年第一季度，中微公司推出的5纳米刻蚀机，获得了台积电与三星的大量订单。目前中微公司已成为三星、台积电刻蚀设备的主要供给商之一。中微公司的实力有多强呢？从制程设备到刻蚀系统，中微公司全部完成了自主化生产。
在这里穿插一点，美国为了遏制住中微公司刻蚀机业务的发展，将中微公司列入“黑名单”，禁止相关企业向中微公司提供技术、设备支持。前面也提到：中微公司在刻蚀零部件、技术中，基本上实现了自给自足。因此，中微公司在被美国列入“黑名单”后，依旧完成了从65纳米刻蚀制程到14纳米、7纳米、5纳米刻蚀制程的成功连跳。
讽刺的是：中微公司推出5纳米刻蚀机后，美国眼见阻拦无效，便取消了有关中微公司的禁令，并将黑手伸向了我国其它半导体厂商的身上。例如拉黑以飞腾为首的、我国七家超级计算机巨头。美国取消中微公司的市场禁令，也是受到芯片饥荒的影响，自家半导体厂商扩能、扩产要使用到刻蚀机。
在这里为大家简单科普一下刻蚀机是什么，在芯片制程中，光刻机的作用是通过极紫外光线，将芯片雕刻路线“画”在硅芯片的表面上。刻蚀机负责雕刻，根据光刻机曝光在硅芯片表面上的纹路进行钻刻。也就是说，光刻机负责画，刻蚀机负责刻。
另外，硅芯片线条精细、复杂的特点，决定了刻蚀机的高制程门槛。尤其是在7纳米和7纳米以下芯片制程中，代工厂商对于刻蚀机精度要求很高，精度多高呢？相当于在人发丝直径的几千分之一、万分之一的面积上，进行等效高度为50层楼高度的楼房建设。直白点说：刻蚀机的制程难度仅次于光刻机。
值得一提的是：在设备价值占比中，刻蚀机的价值占比为20%，仅次于光刻机30%的价值量占比。有一点必须要格外注意，尽管中微公司在刻蚀机领域中的技术很高，但在世界市场中的占有份额却很少。目前世界上近94%的刻蚀机市场都被国外占据，中微公司在刻蚀机市场中的占比仅为3.45%。
补充一点，中微公司市场占比低，并不是自己的刻蚀机不受欢迎。而是对比东京电子、应用材料这些大厂，中微公司刻蚀机的产出率很低，是因为设备产能不足导致的。如何快速提升个人在世界市场中的影响力，增加营收，对于中微公司来说是一场不小的挑战。
在全球5纳米芯片制程转向3纳米芯片制程的节点上，中微公司推出3纳米刻蚀机，将很大程度地提升自身在刻蚀机市场中的竞争力。直白来说，中微公司推出的3纳米刻蚀机，在全球刻蚀机领域中位于领先地位。
希望我国更多的半导体厂商能够像中微公司一样，掌握核心技术，击碎美国的技术封锁。祝愿国产半导体厂商能够愈发强大，在半导体领域中早日掌握自主权。
对于中微公司破冰成功的3纳米刻蚀机，大伙有什么想表达的吗？目前我们在光刻机领域中已完成了双工件台系统、EUV光源系统的突破。距离我们生产出先进制程的EUV光刻机仅差光学镜头，你认为我们何时能够生产出先进制程的光刻机呢？欢迎在下面进行留言评论。我是柏柏说科技，90后科技爱好者。关注我，带你了解更多资讯，学习更多知识。
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