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华为在面对芯片限制的时候，让国人都开始关注国产芯片的实力。这时候才发现，在这部分，国产芯片是有短板的。华为芯片反映出的是国内半导体产业的现状，国外对华为芯片的技术封锁，更让我们大家都知道，自研技术的重要性。
我国在生产芯片的关键设备光刻机上，就无法达到最先进的EUV水准。全球只有一个企业能生产EUV光刻机，此公司是来自荷兰的ASML。如果能掌握同样的先进的技术，对国内半导体产业的帮助是无疑是巨大的。
可是要知道，EUV光刻机也并非是荷兰纯国产，90%的先进零部件都是国外进口，蔡司镜头是德国的，光源设备是美国的，先进制程是台积电的。
困难不是放弃的理由，中科院已经决定要布局光刻机，向更先进的光刻技术发起进击。并且在7月份时候，中科院突破了5nm激光光刻技术，对将来打造先进光刻机奠定了基础。
制造芯片是很复杂的过程，不仅需要光刻机，蚀刻机也同样重要。蚀刻机的作用是在硅片上进行蚀刻，比如在晶圆上刻一个槽。如果说光刻机是照相机在胶卷上曝光，那么蚀刻机是显影设备，在底片上显示出影像。
两种设备都十分重要，我国光刻机目前还无法达到5nm程度，但是国产巨头中微半导体已经攻克5nm蚀刻技术。
可能外界对中微半导体的了解并不是很深，此公司是面向全球微观加工高端设备公司，为行业内公司可以提供先进的设备服务。
中微半导体研制的5nm等离子体刻蚀机，被台积电( 2330-TW )验证并运用在生产线上。在打造出先进蚀刻机设备后，台积电第一个下单。
台积电是全球最先进的芯片制造公司，目前慢慢的开始量产5nm工艺，同时在冲刺3nm和2nm。在生产线nm蚀刻机设备，可见中微半导体已经能达到世界顶尖水准。
创建中微半导体的其实是一位海归博士，名字叫尹志尧，当初赴美留学的时候，原本在美可以有不错的发展，但尹志尧还是决定带领团队回到国内，并最终创办了中微半导体，为国产半导体行业作出重大贡献。
蚀刻机和光刻机缺一不可，不难发现，在一块小小的芯片背后，凝聚着众多先进的技术，一块零部件就是一个企业，一项技术的突破可以带动行业的发展。虽然在光刻机上还需要努力，可是随着每一项先进的技术的升级，距离成功都更进一步。相信国产半导体产业，一定能崛起。
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