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要开展，与台湾省、与韩国、与日本、欧洲、美国等国家和地区的状况都不相同，杂乱许多。
像台湾省、韩国、日本等地，要开展芯片工业，是整合全球的供应链，买最先进的产品，再整合起来就行，真实的全球一体化。
但我国大陆要开展芯片工业，全球一体化仅仅想一想罢了，需求的是全国产工业链的兴起，由于美国一向想方设法的卡着咱们开展芯片工业的“脖子”，特别是一些先进的设备，就不答应卖到我国大陆来，全球一体化完结不了。
所以一向以来，国产芯片供应链都是在负重前行，先处理从0到1的问题，再从1渐渐开展到10，终究到达全球顶尖水平，与世界巨子扳手腕。
那么问题来了，当时国产半导体设备中，技能最先进的是哪一种，技能相对最落后的又是哪一种呢？
上图这张图，其实说得十分理解了。刻蚀机应该是当时国产半导体设备中，仅有到达世界领先水平的，已到达了5nm。
这家公司便是中微公司，其出产的刻蚀机，早就完结了5nm，被台积电、中芯等晶圆厂运用。
事实上，刻蚀机之前也是被美国禁运的，但随着中微公司的先进刻蚀机后，禁运也就没含义了，所以放开了商场，我国厂商能够随意买。
而技能相对落后的则是光刻机了，现在上海微电子出产的光刻机，其标示的精度还在90nm。而ASML的光刻机，现已能够出产3nm的芯片了，这中心的距离仍是相当大的。
也正由于光刻机技能距离大，所以现在光刻机是禁运的，比方EUV光刻机美国就禁绝ASML卖到我国大陆来，为的便是阻挠咱们进入到7nm。
前段时间还传出美国要对14nm及以下的设备下手，实施禁运，原因是国内的设备，能够在必定程度上完结14nm以下节点不多，更多的还处于14nm、28nm阶段。
可见，光刻机渐渐的变成了了当时咱们制作芯片的最大短板了，所以国产光刻机真的要尽力才行，不说完结5nm，先完结28nm，再搞定14nm，先完结与其它国产半导体设备一个节点才行，你觉得呢？
而只需国产半导体设备有了打破，到达领先水平，禁运也就没有了任何含义，也就会全面放开了，刻蚀机便是最好的比如。
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原文标题:国产光刻机，仅到达90nm，已成芯片制作的最大短板了
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