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2024-07-02，安全证券发布一篇半导体职业的研究陈述，陈述阐明，刻蚀-半导体制作中心设备，国产化之模范。
刻蚀：半导体制作三大中心设备之一。刻蚀首要担任去除特定区域的资料然后构成细小的结构图画，与光刻、薄膜堆积并称为半导体制作三大中心设备，占半导体前道设备价值总量的22%，位置无足轻重。等离子体干刻是现在刻蚀的干流计划，包含ICP和CCP两大类，ICP可用于硅、金属以及部分介质刻蚀，CCP大多数都用在介质刻蚀，两者市占率不相上下。跟着晶体管尺度不断缩小，对刻蚀的精准度要求更高，原子层刻蚀（ALE）上台，其能够看做是ALD的镜像进程，具有自中止特点，刻蚀精度达单原子层级，现已应用于自对准触摸等需原子级精细操控的工艺中，颇具潜力。 格式：国产化之模范，成功打入世界商场。全球刻蚀设备商场归于寡头独占格式，LAM、TEL、AMAT三巨子长时间占有全球九成以上的商场占有率，LAM一家市占率就挨近五成，独占性强。但是，刻蚀也是国内首先获得打破的半导体中心设备，已成功打破海外独占进入世界商场，2015年，美国商务部取消了等离子体刻蚀机对我国的出口操控，旁边面印证了国内刻蚀设备现已获得打破。中微公司、北方华创002371）、屹唐股份等厂商在刻蚀设备的国产化方面做出了突出贡献：中微公司首要经营产品为刻蚀机，在CCP、ICP范畴具有强壮的竞赛力，其刻蚀设备已批量应用于世界先进5nm及以下产线；北方华创的ICP出货已逾越3200腔（截止2023年末），与中微公司同属国内刻蚀设备商场的主力军；屹唐股份的刻蚀设备应用到三星、长存的产线中。整体看，国内刻蚀设备成功打破海外独占，抵达世界领先水平，是国产代替的模范。 亮点：国产代替+先进制程+海外拓宽有望拉动长时间增加。国产代替、自主可控为国内半导体厂商供给了巨大的开展空间，刻蚀设备的国产化现已迈入正轨，国内半导体商场将为刻蚀厂商供给连绵不断的订单；此外，先进制程、先进存储需求更多次数的刻蚀工艺，且对刻蚀设备的精度要求更高，单位产线产能的刻蚀设备价值量大幅度的进步。长时间看，海外商场也有望为国内刻蚀厂商供给新的增加点，原由于：1）全球首要半导体厂本钱开支处于较高水平；2）国内刻蚀设备具有全球竞赛力，在部分范畴有才能与世界巨子打开直面竞赛。 出资主张：刻蚀设备是国内首先获得打破的半导体制作中心设备，技能产品力强壮，国产代替已成常态，且成功进入海外商场打开世界竞赛。当时，国内先进制程、先进存储产能仍显缺乏，技能打破、产能扩张诉求较强，刻蚀设备的国内商场空间长时间富余，且全球半导体厂商的本钱开支仍处在高位，长时间看，具有强壮竞赛力的国内刻蚀设备厂有望不断腐蚀海外商场，为其成绩持续增加供给足够的动力。引荐中微公司、北方华创。 危险提示：（1）国内技能产品开发没有抵达预期的危险。（2）海外制裁加重的危险。（3）下流需求没有抵达预期的危险。
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