服务热线
010-6756 6879
8月24日晚间，A股半导体设备龙头中微公司发布了半年报。依据半年报，2021年上半年，中微公司完结经营收入13.39亿元，同比添加36.82%，完结归属于上市公司股东净利润3.97亿元，同比添加233.17%。
中微公司是国内刻蚀机龙头，刻蚀是芯片制作的一个重要工艺，指的是使用化学途径挑选性地移除芯片外表或外表掩盖的薄膜。2004年，公司董事长尹志尧抛弃美国百万年薪，带领15人小团队回国创办了中微。现在中微的设备已打入台积电、中芯世界、意法半导体等制作和封测客户。
2019年的招股书中，中微公司曾发表，由于开发出了与美国设备公司具有平等质量和适当标准的等离子体刻蚀设备并完结量产，美国商务部在 2015 年宣告解除了对我国等离子体刻蚀设备多年的出口控制。
与成绩进步相对应的是，中微公司上半年加大了研制投入，开支2.86亿元，相较去年同期添加38.1%。公司的研制人数也从去年同期的298人添加至348人。公司成绩变好，职工也得到了加薪，半年报发表，研制人员均匀薪资由去年同期的29.74万元添加到33.17万元，均匀月薪到达5.5万元。这一个数字看着不错，但与刚刚发半年报的腾讯比较，还有距离。依据腾讯半年报，腾讯职工上半年人均月薪7.8万元。
一般来说，建造一座晶圆厂，70%的出资都大多数都用在购买设备。刻蚀设备、光刻设备、薄膜堆积设备是集成电路前道出产的根本工艺中最重要的三类，在不少先进的晶圆厂，刻蚀设备在全体设备中的出资中能到达25%到30%，甚至在部分NAND闪存出产线%。
中微公司称，现在CCP刻蚀机已在5nm器材上完结量产，并在5纳米以下器材的试出产上完结了突破性的发展。用于更小器材、厚度薄的软资料的ICP刻蚀机则在快速地发展阶段。
现在，中微半导体的等离子体刻蚀设备已应用在世界一线nm及其他先进的集成电路加工制作出产线及先进封装出产线年上半年刻蚀设备收入为8.58亿元，较去年同期添加约83.79%，毛利率到达44.29%。
在研项目中发表，中微公司现在已经在进军3nm工艺。现在已完结3nm刻蚀机Alpha原型机的规划、制作、测验及开始的工艺开发和评价。
从刻蚀机发家后，中微的产品线逐渐拓宽到MOCVD（薄膜堆积设备）和VOC进化设备范畴。上半年MOCVD设备营收2.19亿元同比下降10.08%，但该项事务毛利率到达30.77%，较去年同期大幅度的进步。