2022年全球半导体设备市场中刻蚀设备占比约为22%，是占比最高的设备环节。近几年，全球刻蚀设备市场规模呈现持续增长的趋势，2019-2022年全球刻蚀设备市场规模由110亿元增长至184元，预计2023年将增长至192亿美元。
分具体产品来看，ICP刻蚀设备及CCP刻蚀设备分别占刻蚀设备市场规模的47.9%和47.5%，整体占比相当，过去CCP设备市场规模占比更高，后伴随先进制程发展ICP设备需求增速更快、使得ICP设备占比超越CCP设备，近年来由于NAND逐步迈入3D结构时代，存储芯片对CCP设备需求增大，使得CCP设备市场规模占比快速回升，且预计未来将再度反超ICP设备占比。
根据多个方面数据显示，2022年全球刻蚀设备市场规模约为184亿美元，其中，介质刻蚀设备市场规模约84亿美元，导体刻蚀设备市场规模约100亿美元，导体刻蚀设备包括硅基刻蚀和金属刻蚀。
与全球刻蚀设备市场相比，国内刻蚀设备市场规模还需要长时间的发展。2022年市场规模增长至375.28亿元，预计2023年有望增长至500亿元。
本文节选自华经产业研究院发布的《2023年全球及中国刻蚀设备行业发展现状及竞争局势分析，新技术+结构复杂化，刻蚀设备市场规模逐步扩大「图」》，如需获取全文内容，可进入华经情报网搜索查看。
对比国际刻蚀龙头，国内刻蚀企业在规模、研发、技术等差距显著，尚未攻克尖端技术。中微公司和北方华创是主要的国产半导体刻蚀设备公司，分别在CCP和ICP占据领头羊，部分技术水平和应用领域已达国际同种类型的产品标准，2021年全球市占率分别约2%。中微作为中国刻蚀机行业巨头，其5nm刻蚀机技术已相当成熟，并已着手研发3nm的工艺，技术水平发展迅猛。
中微公司刻蚀设备包含CCP与ICP，目前CCP已进入7-5nm的晶圆生产线nm以下也取得可喜进展。2021年，中微公司共生产付运CCP刻蚀设备298腔，产量同比增长40%；生产付运ICP设备134腔，产量同比增长235%；北方华创刻蚀机主要为ICP，覆盖8寸、12寸55-28nm制程；屹唐股份干法刻蚀设备可用于65nm~5nm逻辑芯片、1y~2xnm系列DRAM芯片以及32层~128层3D闪存芯片制造中若干关键步骤的大规模量产。
华经产业研究院研究团队使用桌面研究与定量调查、定性分析相结合的方式，全面客观的剖析刻蚀设备行业发展的总体市场容量、产业链、经营特性、盈利能力和商业模式等。科学使用SCP模型、SWOT、PEST、回归分析、SPACE矩阵等研究模型与方法综合分析刻蚀设备行业市场环境、产业政策、竞争格局、技术革新、市场风险、行业壁垒、机遇以及挑战等相关因素。根据刻蚀设备行业的发展轨迹及实践经验，精心研究编制《2025-2031年中国刻蚀设备行业发展监测及投资战略咨询报告》，为企业、科研、投资机构等单位投资决策、战略规划、产业研究提供重要参考。
第五章 2020-2024年中国刻蚀设备或所属行业七大区域发展现状及趋势分析
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