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假如现在在光刻机范畴咱们还无力做出改动，那么现已占有优势的刻蚀机范畴势必会成为国产代替的前锋近期关于华为已无芯片的信息被外界热议，国产芯片的发展前途也再次成为热门。前一段时间《每日财报》用系列文章对国内半导体职业的现状做了介绍，在设备范畴要点分析了技能难度最大的光刻胶，今日就带我们进一步探究国内最具优势的半导体设备——刻蚀机。在芯片的制作的完好过程中，有三大要害工序，分别是光刻、刻蚀、堆积。这三大工序在出产的过程中，不断的重复循环，终究制作成为芯片。而在这三大要害工序中，要用到三种要害设备，分别是光刻机、刻蚀机、薄膜堆积设备。这三大设备占一切制作设备投入的22%、22%、20%左右，是三种占比最高...
央行：即日起，公开市场7天期逆回购操作利率由此前的1.80%调整为1.70%