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东京电子3D NAND蚀刻新技能或应战泛林商场领导地位

来源:米乐体育    发布时间:2024-10-20 03:34:14

简要描述:

日本芯片制作设备制作商东京电子正在以一项打破性的3D NAND闪存通道蚀刻新技能追逐美国竞争对手...

  日本芯片制作设备制作商东京电子正在以一项打破性的3D NAND闪存通道蚀刻新技能追逐美国竞争对手泛林集团,这项技能终究可能为该公司带来数十亿美元收入。

  泛林集团以100%的商场占有率在该范畴占有主导地位,当东京电子在本年6月宣告新技能时,该公司好像没有遭到要挟。泛林集团CEO Tim Archer在答复东京电子技能打破影响时表明:“考虑到咱们所在的方位和起点,咱们很有决心在这一范畴坚持领导地位和商场占有率。”

  据悉,东京电子新技能是针对3D NAND闪存开发的,它可以长期存储数据。该公司开发了一种蚀刻通道孔的新办法,触及在存储单元中快速深化地刺进笔直孔。3D NAND的存储容量能经过笔直堆叠存储单元层来添加,跟着层数的添加,需求更高功能的设备。

  东京电子表明,他们的新技能能蚀刻深度相当于400多层的洞,速度是传统技能的2.5倍,一起这一办法还可以明显削减该进程对全球变暖的影响。

  东京电子估计,NAND通道工艺商场将从2023年的5亿美元扩大到2027年的20亿美元。假如泛林集团无法生产出可以与东京电子的打破相抗衡的产品,两家公司现在的商场占有率可能会反转。这将对东京电子的赢利发生严重推进效果。在到2023年3月的财年中,新蚀刻设备的总销售额略低于5800亿日元(合39亿美元),约占兼并总销售额的四分之一。

  三菱UFJ摩根士丹利证券的分析师Tetsuya Wadaki也相同看好东京电子新蚀刻设备远景,他表明,2023年蚀刻设备商场规模超越200亿美元,泛林集团操控了大约一半的商场,东京电子以约25%的商场占有率位居第二。跟着新技能的到位,东京电子预备在未来几年内超越泛林集团在所有蚀刻体系中的比例。”

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