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飞秒激光直写光刻体系,laser lithography system是专业为微纳结构光蚀刻而规划的激光直写光刻机。飞秒激光直写光刻体系根据多光子聚合技能（multi photon polymerization, mPP),合适市场上的各种光刻胶（photoresists），可以以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构,是全球**的激光光刻机.统软件操控，简略的3D模型经过这一种软件即可生成，关于很杂乱的3D模型，用户都可以经过Autodesk, AutoCAD等软件制造，然后导入到三维光刻机的软件中，这个软件支撑.stl, dxf等格局的文件用于3D结构的制造。
激光光刻机激光直接读写这套激光光刻机由飞秒激光光源，精细的3轴定位台和扫描镜组成。首要，待刻录的图形经过激光光刻机精细的激光聚集体系直接从CAD规划中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于构成高质量外表的3D结构。100nm的标准可自构成结构，200nm-10um标准的结构能操控并重复，这套激光蚀刻机供给纳米标准分辨率和对聚合物的广泛挑选，然后可以合适微纳光学,微流体,MEMS,功用外表制造等各种运用.与CAD规划同等的3D结构构成后，未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。激光光刻机后续工序：在所需的微纳结构构成后，它被浸入到几种不同的溶剂中，以除掉蚀刻进程中留下的液态聚合物。激光光刻机悉数进程都是自动化的，重要参数可以精确的经过要求而设定：浸入时刻,温度等.关于特别的样品或加工目标，可以正常的运用紫外光或干燥机处理。