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MPIE-2020上海国际金属包装工业展览会
多氟多董秘回复：公司半导体级氢氟酸主要使用在在芯片制作的完整过程中的蚀刻与清洗
【48812】多氟多：半导体级氢氟酸首要运用在在芯片制造的完好过程中的蚀刻与清洗现在产能1万吨
【48812】研制出产8、12英寸金属刻蚀体系等5亿元半导体刻蚀设备研制基地签约姑苏
先进制程的等离子体刻蚀设备制造商-中微公司2023年半年报分析
【48812】韩国晶圆蚀刻设备商APTC与美国芯片制作商到达协作
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